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发明名称
电浆处理装置及电浆处理方法
摘要
本发明之电浆处理装置具有设置于与基板相对之室的上部开口,且支撑介电板之梁状隔片。介电板系由梁状隔片所支撑。又,在梁状隔片设置有朝下设置且具有朝向基板之俯角θd的复数制程气体导入口、及具有朝向介电板之仰角θe的复数惰性气体导入口。本发明可在高压且高功率之制程中实现提升蚀刻速率等处理速度,并有效地抑制介电板耗损情形。
申请公布号
TW200849379
申请公布日期
2008.12.16
申请号
TW097109843
申请日期
2008.03.20
申请人
松下电器产业股份有限公司
发明人
广岛满;朝仓浩海
分类号
H01L21/3065(2006.01)
主分类号
H01L21/3065(2006.01)
代理机构
代理人
恽轶群;陈文郎
主权项
地址
日本
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