发明名称 液晶显示元件及其制造方法
摘要 藉由乾式蚀刻,将接触孔与虚设孔形成于位于阵列板的非显示区域的闸极绝缘膜与层间绝缘膜。由于增加该阵列板的开口面积比率,在乾式蚀刻期间,蚀刻气体的发光变化量大,因此藉由侦测这些变化量可以容易地侦测到切合的蚀刻时机。
申请公布号 TW200849375 申请公布日期 2008.12.16
申请号 TW097102054 申请日期 2008.01.18
申请人 东芝松下显示技术股份有限公司 发明人 高桥一博
分类号 H01L21/3065(2006.01) 主分类号 H01L21/3065(2006.01)
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 日本