光罩模型及其制造方法和形成使用光罩模型之大尺寸微图案的方法

摘要

本发明揭示一种光罩模型、其制造方法，及一种使用该经制造之光罩模型形成一大尺寸微图案的方法，其中可使用一具有低成本之简单方法来放大一奈米级微图案之尺寸，且可最小化形成一大区域之单元之间的干扰及缝合误差。用于制造该光罩模型之该方法包括下列操作：将抗蚀剂涂布于一光罩或具有一雕刻微图案之复数个小模型上；冲压该等小模型，以将该微图案压印于该抗蚀剂上；固化该抗蚀剂；及自该抗蚀剂脱模该等小模型。