电浆处理装置及电浆处理方法

摘要

本发明系关于一种可产生均匀之电浆、对于大面积基板可进行均匀之处理之电浆处理装置及处理方法。本发明之电浆处理装置，包括：真空腔；配置于真空腔内部下侧，且包含复数个区块之下部电极；配置于真空腔内部上侧，且接地之上部电极；对真空腔内部供给制程气体之制程气体供给部；与下部电极连接，施加源功率之源功率供给部；与下部电极之各区块分别连接，对各区块独立地施加偏压功率之偏压功率供给部；及计算施加于下部电极之各区块之偏压功率，控制偏压功率供给部之控制部。