| 摘要 |
本发明提供一种制造一具有双层金属覆罩之互连结构之结构及方法。在一实施例中，该方法包括：在一介电材料层中形成一互连特征；及在该互连特征之一顶部表面上形成一双层金属覆罩。该方法进一步包括沈积一介电覆罩层之一毯覆层，其中该沈积覆盖该介电材料层之一曝露表面及该双层金属覆罩之一表面。该双层金属覆罩包括：一金属覆罩层，其形成于该互连特征之一导电表面上；及一金属氮化物，其形成于该金属覆罩层之一顶部部分上。本发明亦描述一种互连结构，该互连结构具有：一互连特征，其形成于一介电层中；一双层金属覆罩，其形成于该互连特征之一顶部部分上；及一介电覆罩层，其形成于该双层金属覆罩上方。 |
