发明名称 | 批次处理用之半导体晶圆晶舟 | ||
摘要 | 一种晶舟,用以在低摩擦力沉积物可能涂布于晶圆支撑表面上的处理中,垂直堆叠晶圆。举例而言,在碳处理中,可能形成低摩擦力涂层,而使晶圆在晶舟中向侧边滑动,使其极度未对准,导致操作时的晶圆破裂。用于处理的一般晶舟具有垂直柱脚,数目通常是三个或是四个,其中,对准的槽口支撑各个晶圆。只要晶圆维持在中心,插槽可设置环绕晶圆边缘之足够的空隙,以辅助晶圆之装载及卸载而不会损坏晶圆。对于低摩擦力处理的环境而言,各个槽口设有浅的凹陷部,晶圆可放置在槽口的边缘上。凹陷部会在邻近于晶圆边缘加上一个低梯级部,晶圆边缘可阻止晶圆的水平滑动移动。藉由分隔于梯级部之上的平面插入晶圆于晶舟之中而装载晶圆,接着晶圆降低至凹陷部之上。 | ||
申请公布号 | TW200849449 | 申请公布日期 | 2008.12.16 |
申请号 | TW097103866 | 申请日期 | 2008.02.01 |
申请人 | 东京威力科创股份有限公司 | 发明人 | 法兰克 赫松 |
分类号 | H01L21/677(2006.01) | 主分类号 | H01L21/677(2006.01) |
代理机构 | 代理人 | 周良谋;周良吉 | |
主权项 | |||
地址 | 日本 |