发明名称 批次处理用之半导体晶圆晶舟
摘要 一种晶舟,用以在低摩擦力沉积物可能涂布于晶圆支撑表面上的处理中,垂直堆叠晶圆。举例而言,在碳处理中,可能形成低摩擦力涂层,而使晶圆在晶舟中向侧边滑动,使其极度未对准,导致操作时的晶圆破裂。用于处理的一般晶舟具有垂直柱脚,数目通常是三个或是四个,其中,对准的槽口支撑各个晶圆。只要晶圆维持在中心,插槽可设置环绕晶圆边缘之足够的空隙,以辅助晶圆之装载及卸载而不会损坏晶圆。对于低摩擦力处理的环境而言,各个槽口设有浅的凹陷部,晶圆可放置在槽口的边缘上。凹陷部会在邻近于晶圆边缘加上一个低梯级部,晶圆边缘可阻止晶圆的水平滑动移动。藉由分隔于梯级部之上的平面插入晶圆于晶舟之中而装载晶圆,接着晶圆降低至凹陷部之上。
申请公布号 TW200849449 申请公布日期 2008.12.16
申请号 TW097103866 申请日期 2008.02.01
申请人 东京威力科创股份有限公司 发明人 法兰克 赫松
分类号 H01L21/677(2006.01) 主分类号 H01L21/677(2006.01)
代理机构 代理人 周良谋;周良吉
主权项
地址 日本