发明名称 具有凸块之基板制程及其结构
摘要 一种具有凸块之基板制程,其系包含下列步骤:首先,提供一具有一本体及复数个导电元件之金属基材,接着,形成一第一介电层于该本体,且该第一介电层系包覆该些导电元件,之后,形成复数个线路及复数个接点于该第一介电层之一表面,且该些接点系电性连接该些导电元件,接着,形成一第二介电层于该第一介电层之该表面,该第二介电层系覆盖该些线路,最后,图案化该本体以形成复数个凸块,该些凸块系藉由该些导电元件电性连接该些接点。本发明系藉由蚀刻该本体以形成该些凸块,其系可使该些凸块与该些导电元件间之结合强度佳,且可降低制程成本。
申请公布号 TW200849423 申请公布日期 2008.12.16
申请号 TW096120581 申请日期 2007.06.07
申请人 日月光半导体制造股份有限公司 发明人 王建皓
分类号 H01L21/60(2006.01);H01L23/492(2006.01) 主分类号 H01L21/60(2006.01)
代理机构 代理人 张启威
主权项
地址 高雄市楠梓加工出口区经三路26号