发明名称 输送器及成膜装置与其保养方法
摘要 本发明提供一种输送器及成膜装置与其保养方法,该输送器包含:框架;下部支持机构,其支持呈纵型载置有基板之承载器,并且搬送承载器;以及上部支持机构,其支持承载器;其中,框架由下部框架及上部框架构成,下部支持机构设于下部框架上,上部支持机构设于上部框架上,上部框架构成为可与下部框架分离地移动。因此,藉由使上部框架转动,可在形成于下部框架上方之空间内配置阴极构件,故而可缩窄成膜处理路径与承载器搬送路径之间隔。因此,可缩窄成膜装置之中庭,故而于可搬送承载器之输送器以及具备该输送器且具备真空处理装置及搬送系统之成膜装置中,可使其设置面积狭小化。
申请公布号 TW200848339 申请公布日期 2008.12.16
申请号 TW097113642 申请日期 2008.04.15
申请人 爱发科股份有限公司 发明人 石野耕司;中村肇;松田麻也子;进藤孝明;小清水孝治
分类号 B65G49/06(2006.01) 主分类号 B65G49/06(2006.01)
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 日本