浸渍曝光设备及制造装置之方法

摘要

浸渍曝光设备具有投射光学系统及基底台。基底台包括夹器及位在由夹器保持之基底周围之顶板。顶板包括测量参考件。在顶板的表面上，当曝光基底时会与液体接触之液体接触区域涂覆有对液体呈现液体驱离性之涂覆薄膜，以及在测量参考件表面上非液体接触区域的区域并未涂覆有涂覆薄膜。