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Un sistema para el tratamiento de substratos, equipado con: - al menos una cámara (1) de procesamiento para tratar al menos un substrato (5) con un proceso de vacío, en el que dicha cámara (1) de procesamiento está dotada de un acceso (13) de substrato susceptible de ser cerrado por medio de un cuerpo (15) de cierre; - medios (19, 20, 21) de transporte de substrato para llevar el substrato (5) desde el acceso (13) de substrato hasta la cámara (1) de procesamiento y extraerlo hacia fuera de la misma, y un dispositivo (8) de transporte que está al menos dispuesto para mover el citado cuerpo (15) de cierre, en el que dicho dispositivo (8) de transporte está dispuesto para transportar una máscara (4), prevista para cubrir al menos parcialmente el citado substrato (5) durante dicho proceso de vacío, al menos entre una posición exterior a la cámara (1) de procesamiento y una posición interior a la cámara (1) de procesamiento.
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