Verfahren zur einseitigen Politur nicht strukturierter Halbleiterscheiben

摘要

Gegenstand der Erfindung ist ein Verfahren zur einseitigen Politur einer nicht strukturierten Halbleiterscheibe unter Verwendung eines Polierkopfes mit einer Membran aus einem elastischen Material, mit der der Polierdruck auf die Rückseite der zu polierenden Halbleiterscheibe übertragen wird, wobei die Halbleiterscheibe unter Zuführen eines Poliermittels gegen ein Poliertuch mit glatter Oberfläche gedrückt wird und von einem Rückhaltering am Abgleiten von der Membran abgehalten wird. Der Rückhaltering ist auf einer zum Poliertuch gewandten Seitenfläche mit Kanälen versehen.