发明名称 | 可均匀镀膜的靶材装置 | ||
摘要 | 一种可均匀镀膜的靶材装置,包括:一安装于一溅镀设备中的遮蔽盒,及一安装于遮蔽盒中的靶材。该遮蔽盒具有一遮蔽板,该遮蔽板上具有一上下延伸的长槽孔,且该长槽孔的上下两端宽度大于部位的宽度。该靶材安装于该遮蔽盒中,靶材显露遮蔽盒外的面积也是呈两端宽度大于部位宽度的形状。本实用新型靶材装置借由该遮蔽盒的遮蔽板遮盖该靶材,使靶材受气体离子撞击时,降低部位受撞击的次数与频率,使整体靶材上下两端与部位受撞击的次数较为平均,致使溅镀于所述基板上的薄膜厚度较为均匀。 | ||
申请公布号 | CN201162040Y | 申请公布日期 | 2008.12.10 |
申请号 | CN200820008493.3 | 申请日期 | 2008.03.24 |
申请人 | 北儒精密股份有限公司 | 发明人 | 黄泳钊;郑博仁 |
分类号 | C23C14/34(2006.01) | 主分类号 | C23C14/34(2006.01) |
代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 王会卿 |
主权项 | 1.一种可均匀镀膜的靶材装置,其特征在于:靶材装置包括:一个遮蔽盒,及一个安装于该遮蔽盒中的靶材,该遮蔽盒具有一块遮蔽板,该遮蔽板上具有一个长槽孔,且该长槽孔的两端宽度大于中央部位的宽度,该靶材安装于该遮蔽盒中,且一侧面显露于遮蔽盒外,且显露的面积也是呈两端宽度大于中央部位宽度的形状。 | ||
地址 | 中国台湾台南县新市乡环东路2段23号 |