发明名称 基于数字微镜阵列的步进式无掩模数字曝光装置
摘要 本发明公开了一种基于数字微镜阵列的步进式无掩模数字曝光装置,利用数字微镜阵列替代传统掩模板的方法,结合投影曝光系统的特点,实现系统数字式、柔性曝光;由计算机将要曝光的图形、图像发送到数字微镜阵列上,构成数字式掩模,再利用均匀化、准直化后的照明光照射数字微镜阵列,数字微镜阵列上的掩模图像将对该光束进行空间光调制,再由投影物镜系统将该数字掩模板上的图形、图像复制到光刻样品上;光刻样品被置于高精密X-Y向移动工件台上,依靠工件台步进,顺次由数字微镜阵列在焦平面上所形成各个曝光子场的图形,经拼接获得较大面积的曝光图像或图形。本发明具有很强的技术延伸性和工艺兼容性,易于应用在普通工程实际。
申请公布号 CN101320222A 申请公布日期 2008.12.10
申请号 CN200810116067.6 申请日期 2008.07.02
申请人 中国科学院光电技术研究所 发明人 严伟;唐小萍;胡松;邢薇;赵立新;杨勇;杨文波;杨波;周绍林;陈旺富
分类号 G03F7/20(2006.01);G02B1/10(2006.01);G02B5/08(2006.01);G02B27/09(2006.01) 主分类号 G03F7/20(2006.01)
代理机构 北京科迪生专利代理有限责任公司 代理人 贾玉忠;卢纪
主权项 1、一种基于数字微镜阵列的步进式无掩模数字曝光装置,其特征在于:它是由照明光源(1)、椭球镜(2)、反射镜(3)、光拦(4)、准直镜(5)、能量积分匀化(6)、投影物镜(7)、光刻样品(8)、X-Y向步进工件台(9)、数字微镜阵列(10)、数字微镜阵列控制卡(11)、计算机(12)组成;照明光源(1)发出的光,由椭球镜(2)进行聚光,以保证光能量被充分利用;被椭球镜(2)聚集的光被放置在椭球镜(2)开口处的反射镜(3)反射后汇聚到光拦(4),通过光拦(4)将照明光源(1)变成可满足光刻需要的点光源,光拦(4)后放置一准直透镜(5),可使照明光源(1)发射的光通过准直镜(5)准直化以后,都能平行入射到能量积分匀化器(6),再经能量积分匀化器(6)后变为均匀照明光入射到数字微镜阵列(10)上;计算机(12)产生各种灰阶的数字图象,并通过数字微镜阵列控制器(11)将所需的图形、图像传送到数字微镜阵列(10),形成所需要的数字掩模图案;该数字掩模将对数字微镜阵列(10)上的照明光进行空间调制,形成所需要的任意灰度图案;再由投影物镜(7)将此图形成像复制到涂有光刻胶的光刻样品(8)上,从而实现单场曝光;光刻样品(8)位于X-Y向步进工件台(9)上,依靠X-Y向步进工件台(9)步进,顺次由数字掩模在焦平面上所形成的每一个曝光子场的图形,经拼接即可获得较大面积的曝光图像或图形。
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