发明名称 |
用于对一等离子体处理系统进行工具匹配及故障查找的方法 |
摘要 |
测试一具有一接地腔室及一连接至一底部电极的RF电源馈线的等离子体处理系统。在大气中测量所述底部电极与所述接地腔室之间的一第一电容。将消耗性硬件部件安装到所述腔室中。在所述接地腔室包含所安装的所有消耗性硬件部件情况下在真空下测量所述底部电极与所述接地腔室之间的一第二电容。将所述第一电容测量值及所述第二电容测量值分别与一第一参考值及一第二参考值相比较,以识别及确定所述等离子体处理系统中的任何缺陷。所述第一及第二参考值分别代表一无缺陷腔室在大气中的电容及一包含所安装的所有消耗性硬件部件的无缺陷腔室在真空中的电容。 |
申请公布号 |
CN100442061C |
申请公布日期 |
2008.12.10 |
申请号 |
CN200480037347.8 |
申请日期 |
2004.11.09 |
申请人 |
蓝姆研究公司 |
发明人 |
赛义德·加法尔·加法利安-特黑兰尼;阿芒·阿沃扬 |
分类号 |
G01R27/26(2006.01) |
主分类号 |
G01R27/26(2006.01) |
代理机构 |
北京律盟知识产权代理有限责任公司 |
代理人 |
王允方;刘国伟 |
主权项 |
1、一种用于测试一具有一接地腔室及一底部电极的等离子体处理系统的方法,所述方法包括:在大气下测量所述底部电极与所述接地腔室之间的一第一电容值;安装消耗性硬件部件至所述腔室中;在真空下测量所述底部电极与所述接地腔室之间的一第二电容值,所述接地腔室包含所述消耗性硬件部件;及将所述第一电容值与一第一参考值相比较,将所述第二电容值与一第二参考值相比较,以识别及确定所述等离子体处理系统中之任何缺陷,所述第一及第二参考值分别代表一无缺陷腔室在大气下的电容及一包含所述消耗性硬件部件的无缺陷腔室在真空下的电容。 |
地址 |
美国加利福尼亚州 |