| 发明名称 | 等离子体处理装置 | ||
| 摘要 | 本发明的等离子体处理装置具有：容纳被处理基板的腔室；向所述腔室内提供处理气体的气体供给装置；微波导入装置，向所述腔室内导入等离子体生成用的微波，所述微波导入装置具有：输出多个规定输出的微波的微波振荡器；天线部，具有分别传送从所述微波振荡器输出的多个微波的多个天线，所述微波振荡器具有：发生低功率的微波的微波发生器；将由所述微波发生器所发生的微波分配成多个微波的分配器；将由所述分配器分配的各微波放大到规定的功率的多个放大器部，从所述多个放大器部输出的多个微波，分别向所述多个天线传送，所述多个放大器部的每个具有分离反射微波的隔离器。 | ||
| 申请公布号 | CN101320679A | 申请公布日期 | 2008.12.10 |
| 申请号 | CN200810137677.4 | 申请日期 | 2003.10.06 |
| 申请人 | 东京毅力科创株式会社 | 发明人 | 河西繁;长田勇辉;荻野贵史 |
| 分类号 | H01L21/00(2006.01);H01L21/3065(2006.01);C23F4/00(2006.01);C23C16/513(2006.01);H01J37/32(2006.01);H05H1/46(2006.01) | 主分类号 | H01L21/00(2006.01) |
| 代理机构 | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人 | 刘春成 |
| 主权项 | 1.一种等离子体处理装置，其特征在于，具有：容纳被处理基板的腔室；向所述腔室内提供处理气体的气体供给装置；微波导入装置，向所述腔室内导入等离子体生成用的微波，所述微波导入装置具有：输出多个规定输出的微波的微波振荡器；天线部，具有分别传送从所述微波振荡器输出的多个微波的多个天线，所述微波振荡器具有：发生低功率的微波的微波发生器；将由所述微波发生器所发生的微波分配成多个微波的分配器；将由所述分配器分配的各微波放大到规定的功率的多个放大器部，从所述多个放大器部输出的多个微波，分别向所述多个天线传送，所述多个放大器部的每个具有分离反射微波的隔离器。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||