发明名称 |
料架可旋转立式真空高压气淬炉 |
摘要 |
料架可旋转的立式真空高压气淬炉,为立式下开门、底装料式真空炉,包括以工控机及PLC为主的控制系统,其特征是下炉门内侧内圆设旋转平台支座,支座上同轴安装旋转圆盘、料架,旋转圆盘下部同轴安装大齿轮,偏心设置的旋转驱动机构上的小齿轮与大齿轮周啮合,驱动旋转圆盘转动,使承载工件的料架可以绕垂直中心轴旋转;料架根部设较厚隔热层,加热室下屏保温层为环形、两者之间有环台形间隙;转盘及其上的隔热层、料架,以及旋转驱动机构都随炉门一同升降;真空炉采用PLC技术控制,各种动作、炉内温度和料架旋转均连锁控制。该设备能够保证各部位的工件受热均匀一致,在真空、正压、动密封、保温、冷却等性能都得到了较好的保证。 |
申请公布号 |
CN101319272A |
申请公布日期 |
2008.12.10 |
申请号 |
CN200810012387.7 |
申请日期 |
2008.07.18 |
申请人 |
沈阳恒进真空科技有限公司 |
发明人 |
杨建川;石岩;曲绍芬;张晓东;赵建业;顾景文 |
分类号 |
C21D1/62(2006.01);C21D1/613(2006.01);C21D1/773(2006.01) |
主分类号 |
C21D1/62(2006.01) |
代理机构 |
沈阳科威专利代理有限责任公司 |
代理人 |
崔红梅 |
主权项 |
1、一种料架可旋转的立式真空高压气淬炉,为立式下开门、底装料式真空炉,包括以工控机及PLC为主的控制系统,其特征是下炉门(10)内侧内圆设旋转平台支座(9),支座(9)上同轴安装旋转圆盘(6)、料架(8),旋转圆盘(6)下部同轴安装大齿轮(5),偏心设置的旋转驱动机构(1)上的小齿轮(3)与大齿轮(5)周啮合,驱动旋转圆盘(6)转动,使承载工件的料架(8)可以绕垂直中心轴(4)旋转;料架(8)根部设较厚隔热层(7),加热室下屏保温层(11)为环形、两者之间有环台形间隙;旋转圆盘(6)及其上的隔热层(7)、料架(8),以及旋转驱动机构(1)都随下炉门(10)一同升降;真空炉采用PLC技术,各种动作、炉内温度和料架旋转均连锁控制。 |
地址 |
110168辽宁省沈阳市浑南新区学院路1号 |