发明名称 | 用于在电子柱中聚焦电子束的方法 | ||
摘要 | 本发明涉及用于在产生电子束的电子柱中改善聚焦的方法。根据本发明的用于控制电子束的聚焦的方法减小了当电子束到达试件时该电子束的光斑大小,从而能够提高分辨率并能够减小半导体光刻处理中的图案的线宽,由此能够改善电子的性能。 | ||
申请公布号 | CN101322218A | 申请公布日期 | 2008.12.10 |
申请号 | CN200680045633.8 | 申请日期 | 2006.12.05 |
申请人 | 电子线技术院株式会社 | 发明人 | 金浩燮;安承濬;金大旭;金荣喆 |
分类号 | H01J37/147(2006.01) | 主分类号 | H01J37/147(2006.01) |
代理机构 | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人 | 黄纶伟 |
主权项 | 1.一种用于在电子柱中聚焦电子束的方法,该电子柱具有聚焦透镜,该方法包括以下步骤:将与从所述电子柱发射的所述电子束的能量相对应的预定电压施加到所述聚焦透镜的多个电极层中的每一个;以及另外提供对于减速模式或加速模式所必需的电压。 | ||
地址 | 韩国忠清南道 |