| 发明名称 | 仪表校准方法和系统 | ||
| 摘要 | 本公开揭示一种用于校准系统中的仪表的方法，其中若干仪表(1，j)用来测量要求的量；一个采集仪表(4)用来测量形成前述若干仪表(1)的总量的量。根据本发明，若干仪表(1)和采集仪表(4)两者的测量结果被反复地和至少近乎同时地记录；并从记录的测量数据及其记录次数，产生各仪表(1，j)的相对测量误差和可能的误差偏离的模型。 | ||
| 申请公布号 | CN101322043A | 申请公布日期 | 2008.12.10 |
| 申请号 | CN200680044979.6 | 申请日期 | 2006.11.27 |
| 申请人 | 芬兰国立技术研究中心 | 发明人 | H·瑟帕 |
| 分类号 | G01R35/04(2006.01);G01R11/17(2006.01);G01D4/08(2006.01);G01D18/00(2006.01) | 主分类号 | G01R35/04(2006.01) |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人 | 刘佳 |
| 主权项 | 1.一种校准系统中仪表的方法，其中若干仪表(1，j)用来测量要求的量；一个采集仪表(4)用来测量形成前述若干仪表(1)的总量的量，其特征在于，若干仪表(1)和采集仪表(4)两者的测量结果被反复地和至少近乎同时地记录；以及从记录的测量数据及其记录次数，产生各仪表(1，j)的相对测量误差和可能的误差偏离的模型。 | ||
| 地址 | 芬兰埃斯堡市 | ||