| 发明名称 | 磁记录介质、磁记录再生装置以及磁记录介质的制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种具有以凹凸图案形成，将记录要素作为该凹凸图案的凸部形成的记录层，且得到磁头的良好的悬浮特性的可靠性高的磁记录介质，具有该磁记录介质的磁记录再生装置以及这样的磁记录介质的制造方法。磁记录介质(12)，具有：在基板上以规定的凹凸图案形成，将记录要素(24A)作为该凹凸图案的凸部形成的记录层(24)；在记录要素(24A)之间的凹部(26)填充的填充要素(28)；电阻率低于填充要素(28)且在填充要素(28)上形成的导电膜(30)；覆盖记录要素(24A)以及填充要素(28)，且与导电膜(30)的上面接触地形成的保护膜(32)。 | ||
| 申请公布号 | CN100442359C | 申请公布日期 | 2008.12.10 |
| 申请号 | CN200610009217.4 | 申请日期 | 2006.02.14 |
| 申请人 | TDK股份有限公司 | 发明人 | 服部一博;诹访孝裕 |
| 分类号 | G11B5/66(2006.01);G11B5/72(2006.01) | 主分类号 | G11B5/66(2006.01) |
| 代理机构 | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人 | 高龙鑫;王玉双 |
| 主权项 | 1.一种磁记录介质，其特征在于，具有：在基板上以规定的凹凸图案形成的，且将记录要素作为该凹凸图案的凸部形成的记录层；填充在上述记录要素之间的凹部的填充要素；电阻率低于该填充要素，且形成在上述记录要素以及上述填充要素中的至少上述填充要素上的导电膜；覆盖上述记录要素以及上述填充要素，且与上述导电膜的上面接触而形成的硬质碳膜的保护层。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||