发明名称 | 彩色滤光片制程 | ||
摘要 | 一种彩色滤光片制程,是采用压印屏蔽(imprint mask)搭配压印方式与干式蚀刻(dry etching)制程,可以取代传统的湿式显影制程,并达成下列优点:提高彩色单元的图形均匀度、改善彩色单元的膜厚平坦度、增加分辨率、缩短制程时间、减少制程成本、避免使用显影溶剂以减少相关废液处理与环境污染问题。 | ||
申请公布号 | CN100442088C | 申请公布日期 | 2008.12.10 |
申请号 | CN200410096723.2 | 申请日期 | 2004.12.01 |
申请人 | 统宝光电股份有限公司 | 发明人 | 颜丹青;郑其铭;郭光埌 |
分类号 | G02B5/23(2006.01) | 主分类号 | G02B5/23(2006.01) |
代理机构 | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人 | 李强 |
主权项 | 1.一种彩色滤光片制程,包含有下列步骤:提供一基板;形成一材料层于该基板上;提供一屏蔽,其表面包含有至少一凹部区域以及至少一凸部区域;将该屏蔽的表面压印至该材料层,以使该材料层形成一第一厚度区域以及一第二厚度区域;其中,该第一厚度区域的厚度大于该第二厚度区域的厚度;其中,该材料层的第一厚度区域是相对应于该屏蔽的凹部区域;其中,该材料层的第二厚度区域是相对应于该屏蔽的凸部区域;以及进行一干蚀刻制程,将该材料层的第二厚度区域去除,则该材料层的第一厚度区域成为一遮光单元或一彩色单元。 | ||
地址 | 台湾省新竹科学工业园区 |