发明名称 Apparatus for compensating transients heat loads in a lithography mirror
摘要
申请公布号 EP1679537(B1) 申请公布日期 2008.12.10
申请号 EP20060004031 申请日期 2003.06.16
申请人 ASML HOLDING N.V. 发明人 DEL PUERTO, SANTIAGO
分类号 G02B5/08;G02B7/195;G02B7/18;G03F7/20;H01L21/027 主分类号 G02B5/08
代理机构 代理人
主权项
地址