发明名称 |
一种三氧化钨纳米片及其制备方法 |
摘要 |
本发明涉及一种三氧化钨(WO<SUB>3</SUB>)纳米片及其制备方法。三氧化钨(WO<SUB>3</SUB>)纳米片的特征在于:所述三氧化钨(WO<SUB>3</SUB>)纳米片为单晶单斜相(JCPDS#43-1035),呈蓬松絮状,面积为(100-800)nm×(100-800)nm,表观厚度为5-40nm,BET比表面积可达100-250m<SUP>2</SUP>/g。其制备方法为:以钨酸基有机或无机层状混杂微/纳米带(管)为前驱物,经硝酸氧化除去前驱物层间的有机物后制得钨酸(WO<SUB>3</SUB>·H<SUB>2</SUB>O)纳米片,反应温度为15-50℃;反应时间为5-120h;所得钨酸(WO<SUB>3</SUB>·H<SUB>2</SUB>O)纳米片以1-5℃/min的加热速率升温至250-600℃,然后保温1-5h,最后自然冷却至室温脱去结晶水,制得三氧化钨纳米片。本发明工艺过程简单,操作参数变动范围大、适应性强,设备要求低,产物形貌可控、可重复性高,效率高、成本低。 |
申请公布号 |
CN101318702A |
申请公布日期 |
2008.12.10 |
申请号 |
CN200710054544.6 |
申请日期 |
2007.06.08 |
申请人 |
郑州大学 |
发明人 |
陈德良;张锐;王海龙;卢红霞;许红亮 |
分类号 |
C01G41/02(2006.01);B82B3/00(2006.01) |
主分类号 |
C01G41/02(2006.01) |
代理机构 |
郑州联科专利事务所(普通合伙) |
代理人 |
时立新 |
主权项 |
1、一种三氧化钨纳米片,其特征在于:三氧化钨(WO3)纳米片呈蓬松状,三氧化钨纳米片的面积为(100-800)nm×(100-800)nm,表观厚度为5-40nm,其BET比表面积可达100-250m2/g。 |
地址 |
450001河南省郑州市科学大道100号 |