发明名称 一种三氧化钨纳米片及其制备方法
摘要 本发明涉及一种三氧化钨(WO<SUB>3</SUB>)纳米片及其制备方法。三氧化钨(WO<SUB>3</SUB>)纳米片的特征在于:所述三氧化钨(WO<SUB>3</SUB>)纳米片为单晶单斜相(JCPDS#43-1035),呈蓬松絮状,面积为(100-800)nm×(100-800)nm,表观厚度为5-40nm,BET比表面积可达100-250m<SUP>2</SUP>/g。其制备方法为:以钨酸基有机或无机层状混杂微/纳米带(管)为前驱物,经硝酸氧化除去前驱物层间的有机物后制得钨酸(WO<SUB>3</SUB>·H<SUB>2</SUB>O)纳米片,反应温度为15-50℃;反应时间为5-120h;所得钨酸(WO<SUB>3</SUB>·H<SUB>2</SUB>O)纳米片以1-5℃/min的加热速率升温至250-600℃,然后保温1-5h,最后自然冷却至室温脱去结晶水,制得三氧化钨纳米片。本发明工艺过程简单,操作参数变动范围大、适应性强,设备要求低,产物形貌可控、可重复性高,效率高、成本低。
申请公布号 CN101318702A 申请公布日期 2008.12.10
申请号 CN200710054544.6 申请日期 2007.06.08
申请人 郑州大学 发明人 陈德良;张锐;王海龙;卢红霞;许红亮
分类号 C01G41/02(2006.01);B82B3/00(2006.01) 主分类号 C01G41/02(2006.01)
代理机构 郑州联科专利事务所(普通合伙) 代理人 时立新
主权项 1、一种三氧化钨纳米片,其特征在于:三氧化钨(WO3)纳米片呈蓬松状,三氧化钨纳米片的面积为(100-800)nm×(100-800)nm,表观厚度为5-40nm,其BET比表面积可达100-250m2/g。
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