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发明名称
Silicon film dry etching method
摘要
A silicon film is dry etched by parallel plate type dry etching using a mixed gas including a fluorine gas and a chlorine gas.
申请公布号
US2008299778(A1)
申请公布日期
2008.12.04
申请号
US20080154947
申请日期
2008.05.28
申请人
CASIO COMPUTER CO., LTD.
发明人
TOSAKA HISAO
分类号
H01L21/302;B44C1/22
主分类号
H01L21/302
代理机构
代理人
主权项
地址
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