发明名称 喷嘴清洗装置
摘要 本发明提供一种在长时间内都能够充分干净地清洗喷嘴的喷嘴清洗装置。该清洗区(61)具有:一对飞散防止板(73);具备惰性气体喷出用狭缝(77、78)的四个惰性气体喷出用区(75);隔板(74);由支撑构件支撑的下面清洗刷(82)、右侧面清洗刷(83)以及左侧面清洗刷(81);支撑第一喷嘴(87)、第二喷嘴(84)以及第三喷嘴(85、86)的一对喷嘴用区(76)。当清洗区配置于清洗区域时,下面清洗刷配置于能够抵接于狭缝喷嘴下端部下面的位置;右侧面清洗刷配置于朝向狭缝喷嘴的长度方向能够抵接于下端部右侧面的位置;左侧面清洗刷配置于向着狭缝喷嘴的长度方向能够抵接于下端部左侧面的位置。
申请公布号 CN101314153A 申请公布日期 2008.12.03
申请号 CN200810001965.7 申请日期 2008.01.04
申请人 大日本网目版制造株式会社 发明人 高木善则
分类号 B05B15/02(2006.01) 主分类号 B05B15/02(2006.01)
代理机构 隆天国际知识产权代理有限公司 代理人 徐恕;马少东
主权项 1.一种喷嘴清洗装置,用于清洗处理液供给喷嘴,该处理液供给喷嘴从在长尺状的狭缝喷嘴的下端部上形成的狭缝状的吐出口吐出处理液,其特征在于,具备:清洗区,其具有:可抵接于所述狭缝喷嘴的下端部的下面上的下面清洗构件;朝向所述狭缝喷嘴的长度方向而可抵接于所述下端部的右侧面的右侧面清洗构件;相对于所述狭缝喷嘴的长度方向配设于与所述右侧面清洗构件不同的位置,并朝向所述狭缝喷嘴的长度方向而可抵接于所述下端部的左侧面的左侧面清洗构件;移动机构,其使所述清洗区在清洗区域和待机位置之间往复移动,其中,该清洗区域是所述清洗区利用所述下面清洗构件、所述右侧面清洗构件以及所述左侧面清洗构件清洗狭缝喷嘴的下端部的同时进行移动的区域;该待机位置是所述下面清洗构件、右侧面清洗构件以及左侧面清洗构件从狭缝喷嘴分离开的位置;第一喷嘴,其在所述清洗区配置于所述清洗区域时,设置在所述清洗区的隔着所述狭缝喷嘴而与所述右侧面清洗构件相对向的位置上,并能够向所述右侧面清洗构件吐出清洗液;第二喷嘴,其在所述清洗区配置于所述清洗区域时,设置在所述清洗区的隔着所述狭缝喷嘴而与所述左侧面清洗构件相对向的位置上,并能够向所述左侧面清洗构件吐出清洗液;清洗液供给部,其在清洗区在所述清洗区域内移动时、和在清洗区配置于所述待机位置时,向所述第一喷嘴以及所述第二喷嘴供给清洗液。
地址 日本京都府京都市