| 发明名称 | 形成薄膜的方法及制造有机光发射显示器件的方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种形成薄膜的方法和一种制造有机光发射显示器件的方法。该方法包括沉积混合了沉积材料和添加材料的薄膜形成材料从而形成薄膜，并且添加材料与沉积材料具有低共熔点。因此，与仅使用沉积材料形成薄膜的传统方式相比可以在低得多的温度形成薄膜。 | ||
| 申请公布号 | CN100440459C | 申请公布日期 | 2008.12.03 |
| 申请号 | CN200510092224.0 | 申请日期 | 2005.07.01 |
| 申请人 | 三星SDI株式会社 | 发明人 | 金度根;金汉基;许明洙 |
| 分类号 | H01L21/3205(2006.01);H01L21/82(2006.01);H05B33/10(2006.01) | 主分类号 | H01L21/3205(2006.01) |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 李晓舒;魏晓刚 |
| 主权项 | 1、一种形成薄膜的方法，包括：沉积混合了沉积材料和添加材料的薄膜形成材料，从而形成所述薄膜，其中所述薄膜形成材料具有低共熔成分且所述添加材料与所述沉积材料具有低共熔点。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道 | ||