发明名称 抗振干涉仪设备
摘要 一种半反射镜(4)将从低相干性光源(1)发出的光束分离成两个光束,辅助基准板(6)与基准板(16)被支撑作为一个整体,辅助样本(8)与样本(17)被支撑作为一个整体。通过半反射镜(4)的分离获得的第一光束在反射镜(5)上被反射,到达辅助参考面(6a),在辅助参考面(6a)上被反射,并沿着相同的光路返回,然后透射穿过半反射镜(4)。第二光束到达辅助样本表面(8a),在辅助样本表面(8a)上被反射,并沿着相同的光路返回,并在半反射镜(4)上与第一光束合并。第一光束和第二光束之间的光程长度差大致等于参考面(16a)和样本表面(17a)之间的光学距离的两倍。
申请公布号 CN100439854C 申请公布日期 2008.12.03
申请号 CN200410057409.3 申请日期 2004.08.12
申请人 富士能株式会社 发明人 植木伸明
分类号 G01B9/02(2006.01) 主分类号 G01B9/02(2006.01)
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人 秦晨
主权项 1.一种作为光波干涉仪设备的抗振干涉仪设备,其中,从光源发出的光束被光束分离装置分成两个光束,使这两个光束分别沿着彼此具有不同光程长度的两个光路传播,然后两个光束再次合并成一个光束以形成照射光束,以及其中,使得通过沿着具有较短的光程长度的光路传播的光束从样本表面反射获得的反射光的光程长度与通过沿着具有较长的光程长度的光路传播的光束从参考面反射获得的反射光的光程长度之间的光程长度差在光源的相干长度范围内,以及获得通过光学干涉产生的干涉条纹,该光学干涉是在通过所述照射光束在参考面上被反射而获得的光束和通过所述照射光束透射穿过所述参考面然后在样本表面上被反射而获得的光束之间产生的;其中,所述光源是低相干性光源,从所述光源发出的所述光束的相干长度比所述参考面和所述样本表面之间的光学距离的两倍要短,或者所述光源是波长已调制的光源,该光源被调整为当成像元素捕获所述干涉条纹的图像时其相干长度与这样的低相干性光源拥有的相干长度相等;其中,所述照射光束是这样获得的:通过所述参考面或辅助参考面反射所述两个光束中的第一光束,其中支撑所述辅助参考面以使其与所述参考面的相对位置关系不变化,以及通过所述样本表面或辅助样本表面反射所述两个光束中的第二光束,支撑所述辅助样本表面以使其与所述样本表面的相对位置关系不变化并与所述样本表面面向相同的方向,然后将所述第一光束和所述第二光束重新合并成所述一个光束,以便所述第一光束的轴和所述第二光束的轴彼此重合;以及其中,所述光程长度差为所述参考面和所述样本表面之间的光学距离的两倍。
地址 日本埼玉县