发明名称 电致发光元件的制造方法
摘要 本发明涉及一种EL元件的制造方法,包括:在设有表面具有光致抗蚀剂层的至少1色的发光部的基板上,涂布呈不同于所述发光部的颜色的异色发光层形成用涂布液,并所述光致抗蚀剂层及基板上形成异色发光层的工艺;在所述异色发光层上形成异色发光层用光致抗蚀剂层的工艺;对所述异色发光层用光致抗蚀剂层进行图案曝光后,通过进行显影形成图案,留下形成异色发光部的部分的异色发光层用光致抗蚀剂层的工艺;和通过除去已除去所述异色发光层用光致抗蚀剂层的部分的异色发光层,形成在表面具有异色发光层用光致抗蚀剂层的异色发光部的工艺。通过本发明可以避免各发光部上层压有多层多余的层的状态,且可以容易且迅速地剥离这些多余层。
申请公布号 CN100440579C 申请公布日期 2008.12.03
申请号 CN03800011.3 申请日期 2003.01.08
申请人 大日本印刷株式会社 发明人 伊藤范人;立川智之
分类号 H01L51/56(2006.01);H05B33/10(2006.01);H05B33/12(2006.01);H05B33/14(2006.01) 主分类号 H01L51/56(2006.01)
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 代理人 朱丹
主权项 1.一种电致发光元件的制造方法,是采用光刻法的电致发光元件的制造方法,其特征在于,具有:在设有表面具有光致抗蚀剂层的至少1色的、形成为图案形状的发光部的基板上,涂布呈不同于所述发光部的颜色的异色发光层形成用涂布液,并在所述光致抗蚀剂层及所述基板上形成异色发光层的工艺;在所述异色发光层上涂布光致抗蚀剂,形成异色发光层用光致抗蚀剂层的工艺;对所述异色发光层用光致抗蚀剂层进行图案曝光后,通过进行显影形成图案,留下形成异色发光部的部分的异色发光层用光致抗蚀剂层的工艺;和通过除去已除去所述异色发光层用光致抗蚀剂层的部分的异色发光层,形成在表面具有异色发光层用光致抗蚀剂层的异色发光部的工艺,所述异色发光部呈图案形状。
地址 日本国东京都