| 发明名称 | 膜图案的形成法 | ||
| 摘要 | 本发明提供在围堰上不残留弹落的功能液的残渣、使该功能液确实地流入图案形成区域内、得到可靠性高的膜图案的膜图案形成方法，用该形成方法得到的膜图案、具备该膜图案的器件、电光学装置和电子仪器。本发明是将功能液(X1)配置在基板(P)上形成膜图案的方法，首先，在基板(P)上形成与膜图案的形成区域(34)相对应的围堰(B)。而且，将功能液(X1)配置在由围堰(B)区分的图案形成区域(34)内。而且，使功能液(X1)进行固化处理，形成膜图案。此时，在相对于围堰(B)的上面的功能液(X1)的前进接触角和后退接触角之差成为10°以上而且后退接触角成为13°以上的条件下进行功能液X1的配置。 | ||
| 申请公布号 | CN100440428C | 申请公布日期 | 2008.12.03 |
| 申请号 | CN200610077881.2 | 申请日期 | 2006.05.10 |
| 申请人 | 精工爱普生株式会社 | 发明人 | 平井利充;守屋克之;酒井真理 |
| 分类号 | H01L21/02(2006.01);H01L21/288(2006.01);H01L21/3205(2006.01);H01L21/768(2006.01) | 主分类号 | H01L21/02(2006.01) |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 汪惠民 |
| 主权项 | 1.一种膜图案的形成方法，将功能液配置在基板上形成膜图案，其中具有：在上述基板上形成与上述膜图案的形成区域相对应的围堰的工序；将上述功能液配置在由上述围堰区分的图案形成区域内的工序；和对上述功能液进行固化处理后作成膜图案的工序；在使相对于上述围堰的上面的该功能液的前进接触角和后退接触角之差成为10°以上、而且使上述后退接触角成为13°以上的条件下进行上述功能液的配置。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||