交错相移掩模的制造方法

摘要

可以在短时间内进行交错相移掩模的制造方法。使用多步腐蚀工艺形成180°相移区，然后形成0°相位区。以此顺序形成相移区减少了在方法中要进行的光刻的轮数。

主权项

1.一种具有0°相移区和180°相移区的交错相移掩模的制造方法，方法包括：在透过曝光光线的基板上形成不能透过曝光光线的阻挡层；腐蚀一部分阻挡层和下部的基板以在基板中形成沟槽，沟槽具有当曝光光线在沟槽处穿过基板时相移180°的深度，由此在沟槽形成180°相移区的掩模；以及随后腐蚀阻挡层的另一部分，直到露出基板的另一部分，由此在基板的所述另一部分形成0°相移区的掩模；其中形成180°相移区包括：构图阻挡层的预定部分；使用构图的阻挡层作为掩模腐蚀基板，以及随后清洁基板，以除去残留在腐蚀露出的部分基板上的任何颗粒，其中所述腐蚀阻挡层的另一部分形成0°相移区包括：在基板上形成光致抗蚀剂层，所述光致抗蚀剂层覆盖所述沟槽并露出所述阻挡层的另一部分；以及在覆盖沟槽的同时腐蚀所述露出阻挡层的另一部分。