| 发明名称 | 液浸曝光工艺用浸渍液及使用该浸渍液的抗蚀剂图案形成方法 | ||
| 摘要 | 一种浸渍液，是通过液体将抗蚀剂膜曝光的液浸曝光工艺用浸渍液，由对曝光工艺中使用的曝光光透明、其沸点为70-270℃的含氟类液体构成；以及一种抗蚀剂图案形成方法，包括将上述浸渍液直接配置在抗蚀剂膜或保护膜上的工序。可同时防止液浸曝光中的抗蚀剂膜等膜的变质及使用液体的变质，形成采用液浸曝光的高分辨力抗蚀剂图案。 | ||
| 申请公布号 | CN100440431C | 申请公布日期 | 2008.12.03 |
| 申请号 | CN200480005910.3 | 申请日期 | 2004.03.04 |
| 申请人 | 东京応化工业株式会社 | 发明人 | 平山拓;佐藤充;胁屋和正;岩下淳;吉田正昭 |
| 分类号 | H01L21/027(2006.01);G03F7/038(2006.01);G03F7/20(2006.01) | 主分类号 | H01L21/027(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 郭煜;邹雪梅 |
| 主权项 | 1.一种液浸曝光工艺用浸渍液，该浸渍液是通过液体将抗蚀剂膜曝光的液浸曝光工艺用浸渍液，其特征在于：由对上述曝光工艺中使用的曝光光透明、其沸点为70-270℃的全氟烷基醚化合物构成。 | ||
| 地址 | 日本川崎市 | ||