发明名称 |
光敏性化合物、光敏性组成物、形成光阻图案的方法、及使用彼来制造装置的方法 |
摘要 |
本发明系关于一种光敏性化合物,其一个分子具有二或多个下列通式(1)所示之结构单元:#P 097103335P01.bmp其中R#sB!1#eB!至R#sB!5#eB!系选自氢原子、卤素原子、烷基、烷氧基、乙醯氧基、苯基、 基、及部份或所有之氢原子经氟原子取代的烷基;及X为经取代或未经取代之伸苯基或经取代或未经取代之伸 基。 |
申请公布号 |
TW200846333 |
申请公布日期 |
2008.12.01 |
申请号 |
TW097103335 |
申请日期 |
2008.01.29 |
申请人 |
佳能股份有限公司 |
发明人 |
伊藤俊树;山口贵子 |
分类号 |
C07D311/08(2006.01);G03F7/004(2006.01);G03F7/039(2006.01);H01L21/027(2006.01) |
主分类号 |
C07D311/08(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
林志刚 |
主权项 |
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地址 |
日本 |