发明名称 光敏性化合物、光敏性组成物、形成光阻图案的方法、及使用彼来制造装置的方法
摘要 本发明系关于一种光敏性化合物,其一个分子具有二或多个下列通式(1)所示之结构单元:#P 097103335P01.bmp其中R#sB!1#eB!至R#sB!5#eB!系选自氢原子、卤素原子、烷基、烷氧基、乙醯氧基、苯基、 基、及部份或所有之氢原子经氟原子取代的烷基;及X为经取代或未经取代之伸苯基或经取代或未经取代之伸 基。
申请公布号 TW200846333 申请公布日期 2008.12.01
申请号 TW097103335 申请日期 2008.01.29
申请人 佳能股份有限公司 发明人 伊藤俊树;山口贵子
分类号 C07D311/08(2006.01);G03F7/004(2006.01);G03F7/039(2006.01);H01L21/027(2006.01) 主分类号 C07D311/08(2006.01)
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本
您可能感兴趣的专利