发明名称 |
清洁图案化元件的方法与系统以及在基材上沉积一层系统的方法与涂覆系统 |
摘要 |
本发明揭露一种清洁一图案化元件之方法,该图案化元件具有至少一有机涂覆材料(OLED材料)沉积于其上,该方法包括:藉由一电浆蚀刻处理而提供一清洁电浆,以将涂覆材料自图案化元件上移除。在将涂覆材料自图案化元件上移除的过程中,图案化元件不超过会对图案化元件造成伤害之临界温度,并同时维持电浆蚀刻速率为0.2μm/min,特定为0.5μm/min,特定为1μm/min,特定为2.5μm/min,特定为5μm/min。为了产生一脉冲清洁电浆,系提供一脉冲能量。该方法可以在直接电浆蚀刻处理或是远端电浆蚀刻处理中进行。不同之蚀刻处理可结合或接续进行。 |
申请公布号 |
TW200847422 |
申请公布日期 |
2008.12.01 |
申请号 |
TW097100862 |
申请日期 |
2008.01.09 |
申请人 |
应用材料股份有限公司 |
发明人 |
郝夫曼威;戴盖斯康博琼斯密尔 |
分类号 |
H01L27/32(2006.01);H01L21/3065(2006.01) |
主分类号 |
H01L27/32(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
蔡坤财;李世章 |
主权项 |
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地址 |
美国 |