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经营范围
发明名称
萤光体之表面处理方法、以及平面显示装置之制造方法
摘要
使有机酸金属盐与萤光体粒子相接触并使其附着,而形成在表面上被形成有有机酸金属盐层之萤光体粒子,并在使用此而形成萤光体层时,在烧成的同时,使用机酸金属盐层成为金属氧化膜。
申请公布号
TW200847226
申请公布日期
2008.12.01
申请号
TW097105197
申请日期
2008.02.14
申请人
东芝股份有限公司
发明人
石井启太;青木克之
分类号
H01J9/22(2006.01);H01J29/20(2006.01);H01J31/12(2006.01)
主分类号
H01J9/22(2006.01)
代理机构
代理人
林志刚
主权项
地址
日本
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