重叠标记及其应用

摘要

一种重叠标记，用以检查由两次曝光步骤所定义的下晶圆层与用以定义上晶圆层之微影制程间的对准度，包括部分的下晶圆层及一光阻图案。前者包括二第一Ｘ向、二第一Ｙ向、二第二Ｘ向及二第二Ｙ向条状图形。第一Ｘ向与第一Ｙ向条状图形由一曝光步骤所定义，且定义出第一矩形。第二Ｘ向与第二Ｙ向条状图形由另一曝光步骤所定义，且定义出第二矩形，其Ｘ向宽度大于第一矩形但Ｙ向宽度小于第一矩形。前述光阻图案位于该部分下晶圆层上方而被前述条状图形围绕，且是由前述微影制程形成的。