| 摘要 |
一种微影装置，其包含：一照射系统，其经组态以调节一辐射光束；一支撑件，其经建构以支撑一图案化元件，该图案化元件能够将一图案赋予该辐射光束之横截面以形成一经图案化之辐射光束；一基板台，其经建构以固持一基板Ｗ；一投影系统PS，其经组态以将该图案化之辐射光束投影至该基板Ｗ之一目标区上之焦平面处的一曝光狭缝处，其中该投影系统具备一接近于该曝光狭缝之光学部件，且该装置进一步包含一调平系统10，该调平系统用于量测处于一位置之该基板Ｗ相距该曝光狭缝之一高度，及一控制器，其用于控制该基板台WT之一位置以使该基板处于该投影系统PS之该焦平面内的该曝光狭缝处。 |
