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发明名称
光罩设计方法
摘要
一种光罩设计方法。晶片区域可被定义且减少以形成母空置图案。网格空置图案可被形成,母空置图案和网格空置图案之彼此重叠部可被清除以形成次级空置图案。
申请公布号
TW200846822
申请公布日期
2008.12.01
申请号
TW097117302
申请日期
2008.05.09
申请人
东部高科股份有限公司
发明人
李相熙;曹甲焕
分类号
G03F1/14(2006.01)
主分类号
G03F1/14(2006.01)
代理机构
代理人
许世正
主权项
地址
南韩
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