发明名称 研磨垫及其应用与其制造方法
摘要 本发明主要系关于一种研磨垫,该研磨垫包含:一包含纤维之基底材料;一具有低渗透性之薄膜;一个二液型糊剂,其形成于该具有低渗透性之薄膜之上表面上,用于将该基底材料黏合至该具有低渗透性之薄膜;以及一聚氨酯糊剂,其形成于该具有低渗透性之薄膜之下表面上。本发明亦提供一种包含使用该研磨垫研磨一基板之方法,以及一种用于制造如上述之研磨垫之方法。如上述之研磨垫可防止该研磨垫与研磨平板或研磨头分离,并易于更换该研磨垫而不会在该研磨平板或研磨头上遗留残余物。
申请公布号 TW200846132 申请公布日期 2008.12.01
申请号 TW096119161 申请日期 2007.05.29
申请人 三芳化学工业股份有限公司 发明人 冯崇智;姚伊蓬;王良光;洪永璋;宋坤政
分类号 B24B37/00(2006.01);B24D3/32(2006.01);B24D11/02(2006.01) 主分类号 B24B37/00(2006.01)
代理机构 代理人 蔡东贤
主权项
地址 高雄县仁武乡凤仁路402号