| 发明名称 |
PROCEDE DE COLLAGE DIRECT DE DEUX SUBSTRATS UTILISES EN ELECTRONIQUE, OPTIQUE OU OPTO-ELECTRONIQUE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
FR2903808(B1) |
申请公布日期 |
2008.11.28 |
| 申请号 |
FR20060006311 |
申请日期 |
2006.07.11 |
| 申请人 |
S.O.I.TEC SILICON ON INSULATOR TECHNOLOGIES SOCIETE ANONYME |
发明人 |
BOURDELLE KONSTANTIN;MAZURE CARLOS;RAYSSAC OLIVIER |
| 分类号 |
H01L21/20;H01L21/30;H01L21/762 |
主分类号 |
H01L21/20 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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