首页 产品 黄页 商标 征信
会员服务 注册 登录 
全部
 |
企业名
 |
法人/股东/高管
 |
品牌/产品
 |
地址
 |
经营范围
发明名称 METHOD OF REDUCING PLASMA CHARGE DAMAGE FOR PLASMA PROCESSES
摘要
申请公布号 KR100870853(B1) 申请公布日期 2008.11.27
申请号 KR20020004603 申请日期 2002.01.26
申请人 发明人
分类号 C23C16/52;H01L21/205;C23C16/455;H01L21/302;H01L21/31 主分类号 C23C16/52
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
©  2024 传众  czvv.com