摘要 |
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Beschichten einer Vielzahl regelmäßig auf einer Auflagefläche (2) eines einer Prozesskammer (14) zugehörigen Suszeptors (1) angeordneter Substrate (3), wobei die Auflagefläche (2) Anlageflanken (5) ausbildet zur Randfassung jedes Substrates (3). Zur Minimierung der freien Suszeptoroberfläche wird vorgeschlagen, dass die Anlageflanken von den Seitenwänden (5) von aus der Anlagefläche (2) ragenden, von einander mit Abstand getrennten Sockeln (4) gebildet sind, die auf den Eckpunkten (10) einer Wabenstruktur angeordnet sind und einen Grundriss aufweisen, der im wesentlichen einem gleichseitigen Dreieck mit einwärts gekrümmten Seiten (5) entspricht.
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申请人 |
AIXTRON AG;BOYD, ADAM;SAYWELL, VICTOR;MULDER, JAN;FERON, OLIVIER;KAEPPELER, JOHANNES |
发明人 |
BOYD, ADAM;SAYWELL, VICTOR;MULDER, JAN;FERON, OLIVIER;KAEPPELER, JOHANNES |