发明名称 半导体器件
摘要 在存储单元区域mmry形成以矩阵状配置多个存储元件R的存储单元阵列,所述存储元件R具有通过原子排列变化存储电阻值高的高电阻状态和电阻值低的低电阻状态的硫属元素化物材料存储层22,在逻辑电路区域lgc形成半导体集成电路,存储单元阵列和半导体集成电路混装在同一半导体衬底1上。该硫属元素化物材料存储层22由含有10.5原子%以上40原子%以下的Ga或In中的至少任意一种、和5原子%以上35原子%以下的Ge、和5原子%以上25原子%以下的Sb、和40原子%以上65原子%以下的Te的硫属元素化物材料构成。
申请公布号 CN101313406A 申请公布日期 2008.11.26
申请号 CN200680043494.5 申请日期 2006.11.14
申请人 株式会社瑞萨科技 发明人 森川贵博;寺尾元康;高浦则克;黑土健三
分类号 H01L27/105(2006.01);H01L45/00(2006.01) 主分类号 H01L27/105(2006.01)
代理机构 北京市金杜律师事务所 代理人 杨宏军
主权项 1、一种半导体器件,在半导体衬底上形成有存储元件,所述存储元件具有存储层和形成于所述存储层两面上的电极,其特征在于,所述存储层由下述材料构成,所述材料含有10.5原子%以上40原子%以下的镓或铟中的至少任意一种、和5原子%以上35原子%以下的锗、和5原子%以上25原子%以下的锑、和40原子%以上65原子%以下的碲。
地址 日本东京都
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