发明名称 |
Al<SUB>x</SUB>Ga<SUB>y</SUB>In<SUB>1-x-y</SUB>N衬底及其清洗方法,AIN衬底及其清洗方法 |
摘要 |
提供了一种Al<SUB>x</SUB>Ga<SUB>y</SUB>In<SUB>1-x-y</SUB>N衬底,其中当Al<SUB>x</SUB>Ga<SUB>y</SUB>In<SUB>1-x-y</SUB>N衬底的直径为2英寸时,Al<SUB>x</SUB>Ga<SUB>y</SUB>In<SUB>1-x-y</SUB>N衬底一个表面上晶粒大小至少为0.2μm的粒子数至多为20,以及可以获得该Al<SUB>x</SUB>Ga<SUB>y</SUB>In<SUB>1-x-y</SUB>N衬底的清洗方法。此外,提供了一种Al<SUB>x</SUB>Ga<SUB>y</SUB>In<SUB>1-x-y</SUB>N衬底(51),其中在通过X射线光电子能谱学方法以10°检测角获得的该Al<SUB>x</SUB>Ga<SUB>y</SUB>In<SUB>1-x-y</SUB>N衬底(51)表面光电子能谱中,C<SUB>1s</SUB>电子的峰面积和N<SUB>1s</SUB>电子的峰面积之间的比例至多为3,以及可以获得该Al<SUB>x</SUB>Ga<SUB>y</SUB>In<SUB>1-x-y</SUB>N衬底的清洗方法。另外,提供了一种AlN衬底(52),其中在通过X射线光电子能谱学方法以10°检测角获得的AlN衬底(52)表面的光电子能谱中,Al<SUB>2s</SUB>电子峰面积和N<SUB>1s</SUB>电子峰面积之间的比例至多为0.65,以及可以获得该AlN衬底的清洗方法。 |
申请公布号 |
CN101312164A |
申请公布日期 |
2008.11.26 |
申请号 |
CN200810130622.0 |
申请日期 |
2005.07.01 |
申请人 |
住友电气工业株式会社 |
发明人 |
上村智喜;石桥惠二;藤原伸介;中幡英章 |
分类号 |
H01L23/00(2006.01);H01L21/306(2006.01);C30B33/00(2006.01) |
主分类号 |
H01L23/00(2006.01) |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 |
代理人 |
陈平 |
主权项 |
1、一种AlxGayIn1-x-yN衬底(51),其中在通过X射线光电子能谱学方法以10°检测角获得的所述AlxGayIn1-x-yN衬底(51)表面的光电子能谱中,C1s电子的峰面积和N1s电子的峰面积之间的比例(C1s电子峰面积/N1s电子峰面积)至多为3。 |
地址 |
日本大阪府 |