曝光装置及器件制造方法

摘要

本发明提供曝光装置及器件制造方法。器件制造系统(SYS)的曝光装置主体(EX)用液体(5)充满投影光学系(PL)与基板(P)之间的至少一部分，通过投影光学系(PL)与液体(50)将掩模M图形的像投影到基板(P)上，对基板(P)进行曝光；其中：具有基板保持托盘(PH)和液体供给机构(12)；该基板保持托盘(PH)保持基板(P)，同时，使基板(P)浸入其中地保持液体(50)；该液体供给机构(12)在投影光学系(PL)的投影区域(AR1)的近旁从基板(P)的上方将液体(50)供给到基板(P)上。该曝光装置在用液体充满投影光学系与基板之间进行曝光处理时，也可将所期望的器件的图形形成于基板上。

主权项

1.一种曝光装置，用液体充满投影光学系与基板之间的至少一部分，通过上述投影光学系与上述液体将图形的像投影到基板上，对上述基板进行曝光；其特征在于：具有基板保持构件和液体供给机构；该基板保持构件保持上述基板，同时使上述基板浸入其中地保持液体，并具有用于防止上述液体的流出的侧壁部分和底部，该底部的上方开口；该液体供给机构在上述投影光学系的投影区域的近旁从上述基板的上方将液体供给到上述基板上。