发明名称 |
用MBE外延InAlGaN单晶薄膜的方法 |
摘要 |
一种用MBE外延InAlGaN单晶薄膜的方法,其特征在于,包括如下步骤:1)选择一衬底;2)在衬底上采用分子束外延法生长一层氮化层,使得蓝宝石表面形成生长氮化物的浸润层;3)升高衬底的温度;4)在氮化层上生长一层成核层,为生长InAlGaN提供与衬底相同取向的成核中心;5)降低衬底的温度;6)在成核层上生长InAlGaN层。 |
申请公布号 |
CN100437910C |
申请公布日期 |
2008.11.26 |
申请号 |
CN200610088944.4 |
申请日期 |
2006.07.27 |
申请人 |
中国科学院半导体研究所 |
发明人 |
王保柱;王晓亮;王晓燕;王新华;肖红领;王军喜;刘宏新 |
分类号 |
H01L21/20(2006.01);H01L33/00(2006.01) |
主分类号 |
H01L21/20(2006.01) |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 |
代理人 |
汤保平 |
主权项 |
1.一种用MBE外延InAlGaN单晶薄膜的方法,其特征在于,包括如下步骤:1)选择一衬底,该衬底为蓝宝石衬底;2)在衬底上采用分子束外延法生长一层氮化层,使得蓝宝石表面形成生长氮化物的浸润层,该氮化层的材料为AlN,生长氮化层时,衬底的温度为600-800℃,压力为1.33-6.65×10-3Pa,氮化层的生长厚度为0.002-0.05μm;3)升高衬底的温度;4)在氮化层上生长一层成核层,为生长InAlGaN提供与衬底相同取向的成核中心,该成核层的材料为AlN,该成核层的生长温度为700-800℃,压力为1.33-4.65×10-3Pa,成核层的生长厚度为0.002-0.05μm;5)降低衬底的温度;6)在成核层上生长InAlGaN层,其中InAlGaN层的生长温度为500-650℃,压力为1.33-4.65×10-3Pa,InAlGaN层的生长厚度为0.05-0.2μm。 |
地址 |
100083北京市海淀区清华东路甲35号 |