发明名称 用MBE外延InAlGaN单晶薄膜的方法
摘要 一种用MBE外延InAlGaN单晶薄膜的方法,其特征在于,包括如下步骤:1)选择一衬底;2)在衬底上采用分子束外延法生长一层氮化层,使得蓝宝石表面形成生长氮化物的浸润层;3)升高衬底的温度;4)在氮化层上生长一层成核层,为生长InAlGaN提供与衬底相同取向的成核中心;5)降低衬底的温度;6)在成核层上生长InAlGaN层。
申请公布号 CN100437910C 申请公布日期 2008.11.26
申请号 CN200610088944.4 申请日期 2006.07.27
申请人 中国科学院半导体研究所 发明人 王保柱;王晓亮;王晓燕;王新华;肖红领;王军喜;刘宏新
分类号 H01L21/20(2006.01);H01L33/00(2006.01) 主分类号 H01L21/20(2006.01)
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 代理人 汤保平
主权项 1.一种用MBE外延InAlGaN单晶薄膜的方法,其特征在于,包括如下步骤:1)选择一衬底,该衬底为蓝宝石衬底;2)在衬底上采用分子束外延法生长一层氮化层,使得蓝宝石表面形成生长氮化物的浸润层,该氮化层的材料为AlN,生长氮化层时,衬底的温度为600-800℃,压力为1.33-6.65×10-3Pa,氮化层的生长厚度为0.002-0.05μm;3)升高衬底的温度;4)在氮化层上生长一层成核层,为生长InAlGaN提供与衬底相同取向的成核中心,该成核层的材料为AlN,该成核层的生长温度为700-800℃,压力为1.33-4.65×10-3Pa,成核层的生长厚度为0.002-0.05μm;5)降低衬底的温度;6)在成核层上生长InAlGaN层,其中InAlGaN层的生长温度为500-650℃,压力为1.33-4.65×10-3Pa,InAlGaN层的生长厚度为0.05-0.2μm。
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