真空承载设备

摘要

本发明公开了一种真空承载设备，用以承载与固定一基板，并与一真空泵及一去离子水源连接，该真空承载设备包含有：一真空承载平台，具有数个通孔；一传输管路，包含有一第一端、一第二端以及一第三端，该第一端连接至该真空承载平台的该通孔，该第二端连接至该真空泵，该第三端连接至该去离子水源；一真空槽，连接于该传输管路的该第一端与该第二端之间；一储水槽，连接于该传输管路的该第一端与该第三端之间；一阀门，连接于该第一端、该真空槽与该储水槽之间，借以控制该真空槽与该第一端或该储水槽与该第一端的启闭状态；一阀门，设置于该第一端与该真空槽之间；以及一阀门，设置于该第一端与该储水槽之间。

主权项

1、一种真空承载设备，用以承载与固定一基板，并与一真空泵及一去离子水源连接，其特征在于，包含有：一真空承载平台，具有数个通孔；一传输管路，包含有一第一端、一第二端以及一第三端，该第一端连接至该真空承载平台的该通孔，该第二端连接至该真空泵，该第三端连接至该去离子水源；一真空槽，连接于该传输管路的该第一端与该第二端之间；一储水槽，连接于该传输管路的该第一端与该第三端之间；一阀门，连接于该第一端、该真空槽与该储水槽之间，借以控制该真空槽与该第一端或该储水槽与该第一端的启闭状态；一阀门，设置于该第一端与该真空槽之间；以及一阀门，设置于该第一端与该储水槽之间。