发明名称 喷墨记录介质
摘要 本发明涉及一种喷墨记录介质体系,它包含含有两性离子聚合物或低聚物的至少一层涂层。该介质体系显示优异的耐光性以及良好的干燥时间和良好的成像性能。
申请公布号 CN100436153C 申请公布日期 2008.11.26
申请号 CN02821825.6 申请日期 2002.10.24
申请人 西巴特殊化学品控股有限公司 发明人 H·R·敦沃斯;A·J·奈斯比;J·苏哈多尔尼克;D·A·耶尔
分类号 B41M5/00(2006.01);C09D11/00(2006.01) 主分类号 B41M5/00(2006.01)
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 赵苏林;段晓玲
主权项 1.一种喷墨记录介质体系,它包含支持体和在支持体上的一层或多层涂层,其中至少一层涂层包含两性离子聚合物或低聚物,其中两性离子聚合物或低聚物衍生自至少一种非离子单体和至少一种两性离子单体,其中两性离子单体选自下式:<img file="C028218250002C1.GIF" wi="557" he="149" />和<img file="C028218250002C2.GIF" wi="552" he="152" />其中L<sup>+</sup>是下式的基团:<img file="C028218250002C3.GIF" wi="1777" he="410" />L<sup>-</sup>是下式的基团:<img file="C028218250002C4.GIF" wi="790" he="173" />Z<sup>-</sup>是-CO<sub>2</sub><sup>-</sup>、-SO<sub>3</sub><sup>-</sup>,<img file="C028218250002C5.GIF" wi="263" he="290" />或<img file="C028218250002C6.GIF" wi="455" he="290" />Z<sup>+</sup>是-N<sup>+</sup>R<sub>5</sub>R<sub>6</sub>R<sub>7</sub>;R<sub>1</sub>和R<sub>8</sub>独立地是氢或甲基;W<sup>+</sup>是-S<sup>+</sup>R<sub>3</sub>-或-N<sup>+</sup>R<sub>2</sub>R<sub>3</sub>-,W<sup>-</sup>是<img file="C028218250003C1.GIF" wi="504" he="325" />Y<sub>1</sub>和Y<sub>2</sub>独立地选自-O-或-NR<sub>2</sub>;R<sub>2</sub>、R<sub>3</sub>、R<sub>4</sub>、R<sub>5</sub>、R<sub>6</sub>和R<sub>7</sub>独立地选自氢和1-4个碳原子的直链或支链烷基;m是2或3;n是1-5,和其中非离子单体是丙烯酰胺,并且其中任选地存在选自下列的其它非离子单体:甲基丙烯酰胺、N-甲基丙烯酰胺、N,N-二甲基(甲基)丙烯酰胺、N-异丙基(甲基)丙烯酰胺、N-(2-羟丙基)甲基丙烯酰胺、N-羟甲基丙烯酰胺、N-乙烯基甲酰胺、N-乙烯基乙酰胺、N-乙烯基-N-甲基乙酰胺、聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇单甲基醚单(甲基)丙烯酸酯、N-乙烯基-2-吡咯烷酮、甘油单(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸2-羟乙酯、乙烯基甲基砜、乙酸乙烯酯、二丙酮丙烯酰胺、丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、丙烯酸和甲基丙烯酸。
地址 瑞士巴塞尔