| 发明名称 | 光信息介质及其制造方法 | ||
| 摘要 | 提供盘面的翘曲非常小，并且耐擦伤性和耐磨性非常优异的光信息介质及其制造方法。在支撑基体2上具有至少含有记录层5或反射层3的由单层或多层构成的膜体，所述支撑基体侧表面及所述膜体侧表面中的至少一个表面由含有(A)平均粒径100nm以下的无机微粒和(B)反应性聚硅氧烷和(C)活性能量射线固化性化合物的组合物的固化物构成的硬涂层9形成的光信息介质1。 | ||
| 申请公布号 | CN100437784C | 申请公布日期 | 2008.11.26 |
| 申请号 | CN03808342.6 | 申请日期 | 2003.05.23 |
| 申请人 | TDK株式会社 | 发明人 | 林田直树;田中和志;井原理惠 |
| 分类号 | G11B7/24(2006.01);G11B7/26(2006.01) | 主分类号 | G11B7/24(2006.01) |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 汪惠民 |
| 主权项 | 1.一种光信息介质，其中：在支撑基体上具有至少含有记录层或反射层的由单层或多层构成的膜体，所述支撑基体侧表面及所述膜体侧表面中的至少一个表面是由含有(A)平均粒径100nm以下的无机微粒和(B)反应性聚硅氧烷和(C)所述(B)以外的活性能量射线固化性化合物的组合物的固化物构成的硬涂层形成；所述(A)无机微粒是金属或准金属的氧化物的微粒、或者是金属或准金属的硫化物的微粒，所述(B)反应性聚硅氧烷具有选自(甲基)丙烯酰基、乙烯基及巯基中的至少一种反应性基团，所述(C)活性能量射线固化性化合物具有选自(甲基)丙烯酰基、乙烯基及巯基中的至少一种活性基团，所述组合物在以所述(A)、(B)及(C)的总和为基准时含有(A)无机微粒5重量％～80重量％、(B)反应性聚硅氧烷0.01重量％～1重量％、(C)活性能量射线固化性化合物19重量％～94.99重量％。 | ||
| 地址 | 日本国东京都 | ||