发明名称 | 组合的步进器和沉积工具 | ||
摘要 | 一种步进器在形成集成电路的过程中与沉积材料层的硬件组合,因此执行沉积、构图和清洗,而无需将晶片暴露于工具之间的传送,并且将三个工具的功能组合在一个复合工具中。通过施加穿过步进器的掩膜的UV光来去除图案限定材料,从而消除现有技术方法的烘焙和显影步骤。类似地,UV的整片曝光消除现有技术方法的清洗步骤。 | ||
申请公布号 | CN101313250A | 申请公布日期 | 2008.11.26 |
申请号 | CN200680043778.4 | 申请日期 | 2006.11.07 |
申请人 | 国际商业机器公司 | 发明人 | M·P·丘德齐克;J·F·小谢泊德 |
分类号 | G03F7/16(2006.01) | 主分类号 | G03F7/16(2006.01) |
代理机构 | 北京市金杜律师事务所 | 代理人 | 王茂华 |
主权项 | 1.一种用于在工件上沉积已构图结构材料层的设备,包括:沉积模块,具有气体供给装置和用于沉积结构材料的装置,所述气体供给装置用于使至少一种气体在所述工件上流动,所述至少一种气体包括图案材料形成气体,以及曝光模块,包括对准工件的粒子源以及调节所述粒子的分布的构图单元。 | ||
地址 | 美国纽约 |