发明名称 | 用于图像传感器的氘熔合处理 | ||
摘要 | 本发明公开了一种熔合图像传感器的方法。该方法包括在半导体基体内形成各种半导体器件,接着在半导体器件上形成绝缘层,最后在形成绝缘层之后且在沉积金属互连层之前,利用氘气熔合该图像传感器。 | ||
申请公布号 | CN100437979C | 申请公布日期 | 2008.11.26 |
申请号 | CN200610005234.0 | 申请日期 | 2006.01.04 |
申请人 | 豪威科技有限公司 | 发明人 | 霍华德·E·罗德斯 |
分类号 | H01L21/822(2006.01) | 主分类号 | H01L21/822(2006.01) |
代理机构 | 广州三环专利代理有限公司 | 代理人 | 戴建波 |
主权项 | 1、一种在制造CMOS图像传感器过程中熔合CMOS图像传感器的方法,该方法包括:在半导体基体内形成像素阵列,所述的像素阵列包括选自于如下一组的感光元件:光电二极管、部分PIN型光电二极管、PIN型光电二极管、光电门电路或者光电容;在n-沟道外围区域形成若干半导体器件;在p-沟道外围区域形成若干半导体器件;在所述像素阵列与所述半导体器件上形成绝缘层;随后,对形成在所述像素阵列与所述半导体器件上的绝缘层进行平整;以及在所述绝缘层形成和平整之后、且在该绝缘层上形成接触洞之前,利用氘气熔合所述的图像传感器。 | ||
地址 | 美国加利福尼亚州 |