发明名称 用于图像传感器的氘熔合处理
摘要 本发明公开了一种熔合图像传感器的方法。该方法包括在半导体基体内形成各种半导体器件,接着在半导体器件上形成绝缘层,最后在形成绝缘层之后且在沉积金属互连层之前,利用氘气熔合该图像传感器。
申请公布号 CN100437979C 申请公布日期 2008.11.26
申请号 CN200610005234.0 申请日期 2006.01.04
申请人 豪威科技有限公司 发明人 霍华德·E·罗德斯
分类号 H01L21/822(2006.01) 主分类号 H01L21/822(2006.01)
代理机构 广州三环专利代理有限公司 代理人 戴建波
主权项 1、一种在制造CMOS图像传感器过程中熔合CMOS图像传感器的方法,该方法包括:在半导体基体内形成像素阵列,所述的像素阵列包括选自于如下一组的感光元件:光电二极管、部分PIN型光电二极管、PIN型光电二极管、光电门电路或者光电容;在n-沟道外围区域形成若干半导体器件;在p-沟道外围区域形成若干半导体器件;在所述像素阵列与所述半导体器件上形成绝缘层;随后,对形成在所述像素阵列与所述半导体器件上的绝缘层进行平整;以及在所述绝缘层形成和平整之后、且在该绝缘层上形成接触洞之前,利用氘气熔合所述的图像传感器。
地址 美国加利福尼亚州