| 发明名称 | 应用溅镀工艺在太阳能电池基板上制作薄膜的方法 | ||
| 摘要 | 本发明揭露了一种薄型化太阳能电池的方法，可减低太阳能电池制作成本。本发明具体涉及应用溅镀工艺在太阳能电池基板上制作薄膜的方法，其采用溅镀工艺于太阳能电池基板上形成缓冲层以降低或消除其应力。 | ||
| 申请公布号 | CN101312223A | 申请公布日期 | 2008.11.26 |
| 申请号 | CN200710104808.4 | 申请日期 | 2007.05.21 |
| 申请人 | 国硕科技工业股份有限公司 | 发明人 | 黄文瑞;林进章 |
| 分类号 | H01L31/18(2006.01);H01L21/314(2006.01) | 主分类号 | H01L31/18(2006.01) |
| 代理机构 | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人 | 黄健 |
| 主权项 | 1、一种应用溅镀工艺在太阳能电池基板上制作薄膜的方法，其特征在于，该方法包括：使用溅镀法于太阳能电池基板上形成氧化硅薄膜、氮化硅薄膜、氮氧化硅薄膜或上述的组合。 | ||
| 地址 | 台湾省新竹县 | ||